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聚焦离子束(FIB)截面制样与成像

聚焦离子束(FIB)截面制样与成像

仪器型号

赛默飞 Helios 5 UX

已预约

73 次

常规周期

4-6 个工作日

样品方式

需要寄样

满意度

97%

测试内容:定点截面切割(离子束)+ 截面 SEM 成像、薄片(Lamella)制备供 TEM 分析、Pt/C 选择性沉积保护。 适用样品:镀层与涂层截面、焊点与界面、芯片结构、失效点定位。 交付内容:截面系列图像(含刻度标注)、制样记录、测试报告。

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